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8月8日 （月） 4時限目
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14：10～ 本間 敬之 早稲田大学教授 化学オリンピック 講義 化学の広がり ～ ナノテクノロジー・エレクトロニクスと化学 ～ |
本間先生の講義では、化学とエレクトロニクス、ナノテクノロジーが融合した研究について紹介しました。電子機器の小型化、高集積化を後押ししてきた半導体技術。現在では、親指の爪くらいのシリコンの表面に数億個のトランジスタを作るために、「フォトリソグラフィー」という化学反応を利用した技術を使い、ナノメートルサイズの加工が行われています。本間先生はその歴史を紐解き、LSI(大規模集積回路)の発展について解説。
※ LSI【large scale integration】多数のトランジスタやダイオード、抵抗、コンデンサなどの電子部品（素子）を、１つの半導体チップに組み込んだ集積回路（IC）のこと。
また、この集積化技術を化学分野に応用する試みとして、髪の毛の100分の1程の細さの「ガラス試験管」を千本以上規則的に配列した化学反応装置「マイクロリアクター」についても紹介しました。
※講義動画の公開は終了しました。
【 ご 紹 介 】
本間 敬之（ほんま たかゆき）
早稲田大学理工学術院教授（先進理工学部応用化学科，同大学院応用化学専攻・ナノ理工学専攻）
1964年 東京都生まれ
1987年 早稲田大学理工学部卒業，修士課程を経て1992年 同博士後期課程修了（工学博士）
1991年 早稲田大学理工学部助手．専任講師・助教授を経て2005年より現職
1997-1998年 米国スタンフォード大学客員准教授
1998年－現在 米国国立科学財団シリコンウェハ工学研究センター兼任研究員
専門分野は応用物理化学，機能表面化学． 国際電気化学会第5部門長，米国電気化学会誌"Journal of the Electrochemical Society" エディター，電気化学会・表面技術協会・エレクトロニクス実装学会理事．2000年INTERFINISH最優秀論文発表賞，2010年 アメリカ電気化学会研究業績賞．
2004年～2006年 日本化学会化学教育協議会副議長，化学グランプリ・オリンピック委員会委員長
2006年～2011年 国際化学オリンピック日本委員会広報委員長